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上海光机所在氧化镓晶体生长方面取得新进展

2026年03月06日 09:24:41 人气: 14622 来源: 中国科学院上海光学精密机械研究所
  【仪表网 研发快讯】近日,中国科学院上海光学精密机械研究所激光晶体中心齐红基、贾宁团队联合杭州光学精密机械研究所,在氧化镓晶体生长研究方面取得最新进展。相关研究成果以“Realization of 4-Inch and Thick β-Ga2O3 Single Crystals Using the Vertical Bridgman Method”为题发表在CrystEngComm。
 
  氧化镓作为“后摩尔时代”超宽禁带半导体的代表性材料,具有禁带宽度大、击穿场强高、成本低等优势,在新能源汽车、数据中心、智能电网等领域前景广阔。高品质、大尺寸氧化镓单晶的可控制备,已成为当前国际学术界和产业界的研究热点。坩埚下降法(VB法)可实现低成本、无“铱金”化生长氧化镓晶体的重要技术路径,是氧化镓单晶制备最具有竞争力的技术路线之一。然而,在大尺寸晶体生长过程中,热场稳定性控制、晶体缺陷调控以及质量均匀性等方面仍面临诸多挑战。
 
  针对上述关键问题,研究员团队采用VB法结合热场仿真模拟技术,对晶体生长界面形貌与温度梯度分布进行系统调控,在国际上率先制备了8英寸氧化镓单晶(https://mp.weixin.qq.com/s/Wo11YjCB2bjQvAQm88XavQ)。在CrystEngComm (2026, DOI: 10.1039/D5CE01023C)论文中,对使用VB法制备的直径4英寸、厚度超过30 mm的(100)晶向氧化镓晶体性能进行系统表征。测试结果显示,晶圆的X射线衍射(HRXRD)半高宽(FWHM)为49.6–64.8 arcsec,表明晶体具有较高的结晶质量和良好的结构均匀性。该成果为高品质、大尺寸氧化镓单晶的规模化制备提供了技术支撑。
 
  目前团队正联合复旦大学、西安电子科技大学、上海功成半导体等单位,围绕器件端应用需求开展材料—器件协同优化与验证,加快推进氧化镓材料性能迭代升级与功率器件示范应用,持续提升材料自主可控能力。
 
  此外,团队积极参与发起国内首个“超宽禁带半导体产业技术创新战略联盟”,积极参与“上海市超宽禁带半导体未来产业集聚区”建设,助力推动氧化镓创新链、产业链深度融合,为上海加快建设第四代半导体未来产业新增长点提供有力支撑。
 
  相关工作得到了科技部重点研发计划、上海市战略前沿专项、上海市自然基金及中国科学院率先行动计划等项目的支持。
关键词: 氧化镓晶体
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